吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

硅片SI拋光液·參數(shù)

可定制·速率高·效果好·專利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA

產(chǎn)品名稱：硅片拋光液/硅晶圓拋光研磨/半導(dǎo)體晶圓研磨拋光/Si Wafer Slurry

硅片拋光液作用: 用于8-12”Wafer大硅片及再生晶圓的CMP粗拋、中拋、精拋，減少晶圓表面的不平整。達(dá)到半導(dǎo)體高質(zhì)量晶片的組裝工藝要求。

8-12”Wafer大硅片及再生晶圓拋光液具有：

1、高去除速率且除速率穩(wěn)定。

2、循環(huán)性好、稀釋比高、低表面粗糙度。

3、精拋光液低顆粒殘留、低表面粗糙度、低Haze值、低金屬離子含量。

*可以依客戶不同工藝要求，提供定制化服務(wù)

*提供全套解決方案，及免費(fèi)安排工程師上門服務(wù)

利用吉致電子CMP拋光設(shè)備和研磨液/拋光液對半導(dǎo)體晶圓表面進(jìn)行研磨拋光加工，使硅片、晶圓等工件表面粗糙度降低，以獲得光亮、平坦表面的。

吉致電子Si Slurry適用于大硅片及再生晶圓的拋磨，可達(dá)到優(yōu)良的表面平坦度，拋光速率快、良率高、表面均一無缺陷。

吉致電子半導(dǎo)體硅片拋光液儲存方法：

通風(fēng)，陰涼，干燥的庫房，本品需在5-35℃儲存，防止陽光直射及凍結(jié)，零度以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。

吉致電子CMP拋光液/Slurry拋光液價(jià)格：

吉致電子的CMP金屬拋光液生產(chǎn)技術(shù)是引進(jìn)國外生產(chǎn)技術(shù)和設(shè)備，特殊化學(xué)配方制備而成。吉致電子拋光液品質(zhì)可以媲美進(jìn)口同類產(chǎn)品。

本土化生產(chǎn)的優(yōu)勢使吉致電子CMP拋光液產(chǎn)品交貨周期快，品質(zhì)好，拋光液價(jià)格實(shí)惠親民。

吉致電子CMP拋光耗材適用范圍

吉致電子科技有限公司擁有成熟的加工工藝和先進(jìn)的生產(chǎn)設(shè)備，為金屬鉬、不銹鋼、銅、鋁、陶瓷、導(dǎo)光板、五金產(chǎn)品、藍(lán)寶石、光學(xué)玻璃等各類拋光加工服務(wù)。為您提供可靠有效的拋光解決方案！

吉致電子研發(fā)團(tuán)隊(duì)--15年經(jīng)驗(yàn)CMP拋光液配方工程師，為您攻克拋光難題！

無錫吉致電子科技有限公司

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