17706168670
電話：0510-88794006
手機：17706168670
Email：jzdz@jzdz-wx.com
地址：江蘇省無錫市新吳區(qū)行創(chuàng)四路19-2
更多>>
-
-
DPC研磨液----陶瓷覆銅板研磨液拋磨效果
我司是做陶瓷覆銅板的，做的是DPC工藝。板材對粗糙度和平面度有嚴格要求，搭配吉致電子生產(chǎn)的研磨墊、研磨液拋光液效果很好，可以達到我司要求，為了回饋貴司免費提供我司拋光液樣品，我分享兩張對比圖如下：本文由無錫吉致電子科技原創(chuàng)，版權(quán)歸無錫吉致電子科技，未經(jīng)允許，不得轉(zhuǎn)載，轉(zhuǎn)載需附出處及原文鏈接。http://www.jzdz-wx.co…
點擊查看更多>>
-
-
解決拋光難題-----吉致電子陶瓷基板拋光液
陶瓷基板廠家陳總感言： ——我們是做氧化鋁、氮化鋁、氮化硅陶瓷基板的廠家，這些陶瓷板的硬度都是比較高的，我們對板子的RA表面粗糙度有要求，試過好多種拋光工藝，最終選擇了CMP雙面拋光機。 項目開發(fā)期間我們咨詢了很多廠家，也試了很多拋光液，總會出現(xiàn)各種問題，比如：粗糙度達不到、移除速率過慢…
點擊查看更多>>
更多>>
-
-
吉致電子--CMP不銹鋼表面快速拋光
不銹鋼獲取高質(zhì)量的鏡面的傳統(tǒng)工藝主要采用的拋光技術(shù):電解拋光、化學(xué)拋光和機械拋光。隨著對鏡面不銹鋼表面質(zhì)量要求的不斷提高，同時為了提高拋光效率，新型不銹鋼拋光工藝----CMP化學(xué)機械拋光 被廣泛應(yīng)用。吉致電子針對不銹鋼表面鏡面處理，配制組成的CMP拋光液，通過化學(xué)溶液提高不銹鋼表面活性，同時進行高速的機械拋光，用來消除…
點擊查看更多>>
-
-
氧化鋁陶瓷拋光液鏡面拋光
氧化鋁陶瓷片的表面拋光具有一定難度，原因有兩個，一是氧化鋁材質(zhì)硬度較高，難以研磨。其二，氧化鋁陶瓷表面吸光性較強，普通拋光難以達到鏡面效果。這就使得氧化鋁陶瓷拋光的難度無限擴大，針對這些加工難點，吉致電子已經(jīng)具備成熟的拋光工藝和產(chǎn)品，有完善的氧化鋁陶瓷拋光方案。 客戶的氧化鋁陶瓷片，要求做鏡面加工…
點擊查看更多>>
更多>>
- [ 2025-04-23 ] 鉬襯底的應(yīng)用領(lǐng)域及CMP拋光技術(shù)解析
- [ 2025-04-22 ] 先進半導(dǎo)體制造中的CMP Slurry：銅/鎢/碳化硅拋光液技術(shù)與國產(chǎn)化進展
- [ 2025-04-18 ] 吉致電子LED藍寶石襯底研磨拋光CMP工藝方案
- [ 2025-04-17 ] 吉致電子TSV銅化學(xué)機械拋光液：助力3D先進封裝技術(shù)突破
- [ 2025-04-11 ] 藍寶石襯底CMP拋光新視野：氧化鋁與氧化硅的多元應(yīng)用
- [ 2025-04-02 ] 氧化鋁懸浮液在化學(xué)機械拋光（CMP）中的應(yīng)用與優(yōu)化
更多>>
- [ 2025-04-10 ] 【國產(chǎn)替代新選擇】吉致電子IC1000級拋光墊——打破壟斷，助力中國“芯”制造！
- [ 2025-04-09 ] 吉致電子：高穩(wěn)定聚氨酯拋光墊定制專家
- [ 2025-04-08 ] 芯片拋光液（CMP Slurry）：半導(dǎo)體平坦化的核心驅(qū)動力
- [ 2025-04-01 ] 金剛石研磨液在CMP工藝中的應(yīng)用與優(yōu)勢
- [ 2025-03-28 ] 陶瓷基板CMP工藝：無蠟吸附墊技術(shù)解析與應(yīng)用優(yōu)勢
- [ 2025-03-19 ] 半導(dǎo)體CMP拋光液Slurry：精密制造的核心材料
更多>>
- [ 2025-02-25 ] 半導(dǎo)體銅CMP拋光液：銅互連工藝的核心材料
- [ 2025-02-18 ] 硬盤玻璃的表面拋光主要用什么工藝？
- [ 2025-02-08 ] 鈮酸鋰/鉭酸鋰晶體拋光液成分及特點
- [ 2025-01-31 ] 影響碳化硅襯底質(zhì)量的重要工藝參數(shù)有哪些
