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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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[吉致動態(tài)]硅溶膠研磨液--精密工件鏡面拋光效果秘密[ 2023-01-06 13:52 ]
  吉致電子硅溶膠研磨液/拋光液采用的是納米級工藝,主要粒徑在10-150nm。適用于各種材質工件的CMP表面鏡面處理。以硅溶膠漿料為鏡面的平面研磨的材料有半導體晶圓、光學玻璃、3C電子金屬元件、藍寶石襯底、LED顯示屏等高精密元件。  硅溶膠拋光液也稱二氧化硅拋光液、氧化硅精拋液,SiO2是硅溶膠的化學名,適用范圍已擴展到半導體產(chǎn)品的CMP拋光工藝中。  CMP拋光機可以將氧化硅研磨液循環(huán)引入磨盤,同時起到潤滑和冷卻的作用,通過拋光液和拋光墊組合拋磨可以使工件表面粗糙度達到0.2um
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[常見問題]3C鏡面拋光液用什么拋光液[ 2022-12-09 16:18 ]
  3C產(chǎn)品表面鏡面拋光一般不采用電解拋光方式,而是選擇CMP機械拋光工藝。SiO2拋光液用于3C工件的鏡面拋光工藝,主要由納米級磨料制備而成,規(guī)格一般在10nm-150nm拋光后的產(chǎn)品鏡面精度高,表面收光細膩。  氧化硅精拋液進行精拋工藝后,工件可以從霧面提升到鏡面透亮的效果。拋光液配合精拋皮使用,鏡面效果檢測可達納米級。3C金屬拋光液用于鏡面要求較高的工件拋光,因此必須做好前道工序。先粗拋打好基礎,再精拋去除缺陷和不良效果。  有客戶使用二氧化硅拋光液后工件表面會產(chǎn)生麻點,這是由于
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[吉致動態(tài)]氧化硅拋光液的結晶問題[ 2022-08-12 13:25 ]
  氧化硅拋光液長時間暴露在空氣中,會使水分蒸發(fā)剩下固體氧化硅,造成硅晶體析出現(xiàn)象,稱之為結晶。在實際應用時,硅溶膠拋光液會一直在磨盤內旋轉循環(huán)及流動,結晶現(xiàn)象較少,但是高溫或拋光液濃度沒有配置好,會造成團聚,損傷工件,影響拋光效果。根據(jù)二氧化硅的特性,吉致電子拋光液廠家開發(fā)了抗結晶納米二氧化硅拋光液,可以長時間保持氧化硅穩(wěn)定液體狀態(tài)。拋磨工件時易搖散且不團聚,化學性能穩(wěn)定分散均勻,氧化硅精拋液拋光效率高,能有效縮短工時,磨拋后工件呈現(xiàn)鏡面效果,無劃傷、高平坦。  外需要注意的是,氧化硅拋光液的
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