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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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福吉電子采用精密技術(shù)，提供超高質(zhì)量產(chǎn)品
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[吉致動(dòng)態(tài)]吉致電子CMP Pad化學(xué)機(jī)械拋光墊[ 2024-12-27 18:27 ]
吉致電子專注研發(fā)、設(shè)計(jì)、測試與生產(chǎn)制造CMP耗材，CMP PAD化學(xué)機(jī)械拋光墊用于半導(dǎo)體制造、平面顯示器、光學(xué)玻璃、各類晶圓襯底材料、高精密陶瓷件、金屬與硬盤基板的研磨拋光工藝。吉致電子CMP拋光墊采用精密涂布技術(shù)和科技材料能有效提升客戶制程中的移除率和高平坦度、低缺陷等要求。吉致拋光墊團(tuán)隊(duì)從事高分子材料合成、發(fā)泡技術(shù)與復(fù)合材料研制已有多年經(jīng)驗(yàn)，積累深厚的材料制造和研發(fā)基礎(chǔ).拋光墊產(chǎn)品因其特殊纖維材質(zhì)，耐用、耐磨、耐酸堿，價(jià)比高。PAD產(chǎn)品包括且不限于：聚氨酯拋光墊、阻尼布精拋墊、復(fù)合拋光墊、絨面拋光墊、無紡布拋光
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[常見問題]吉致電子---阻尼布拋光墊的功能和應(yīng)用領(lǐng)域[ 2024-12-20 16:12 ]
吉致電子阻尼布拋光墊（精拋墊）的功能和應(yīng)用領(lǐng)域有哪些？一、阻尼布拋光墊的功能優(yōu)勢①提高拋光質(zhì)量：阻尼布拋光墊能夠有效吸收拋光過程中的振動(dòng)和沖擊，使拋光表面更加光滑、細(xì)膩，從而提高產(chǎn)品質(zhì)量。②減少表面損傷：通過降低拋光過程中的振動(dòng)和沖擊力，阻尼布拋光墊可以減少對拋光表面的損傷，保護(hù)材料的完整性。③提高工作效率：阻尼布拋光墊具有良好的耐用性和穩(wěn)定性，能夠長時(shí)間保持穩(wěn)定的拋光效果，從而提高工作效率。二、阻尼布拋光墊的應(yīng)用領(lǐng)域阻尼布拋光墊在多個(gè)領(lǐng)域都有廣泛的應(yīng)用，包括但不限于：①金屬加工領(lǐng)域：可用于金屬表面的拋光處理，如鈦
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[吉致資訊]吉致電子CMP精拋墊的作用有哪些[ 2024-12-17 15:37 ]
吉致電子CMP精拋墊的作用有哪些？化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）技術(shù)是目前國際上公認(rèn)的唯一能夠?qū)崿F(xiàn)全局平坦化的技術(shù)，在半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域中占據(jù)著舉足輕重的地位。CMP精拋墊，作為CMP化學(xué)機(jī)械平面研磨（Chemical Mechanical Polishing）精拋階段所使用的拋光墊，是半導(dǎo)體制造過程中不可或缺的關(guān)鍵耗材。吉致電子CMP拋光墊--精拋墊的功能特點(diǎn)將通過以下四個(gè)方面進(jìn)行闡述：  CMP精拋墊在CMP工藝流程中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用，其主要功能涵蓋：1.確保拋光液能夠高效且均勻
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[常見問題]打磨碳化硅需要哪種拋光墊？[ 2023-08-17 16:41 ]
  打磨碳化硅需要哪種拋光墊？  打磨碳化硅襯底分研磨和拋光4道工序：粗磨、精磨、粗拋、精拋。拋光墊的選擇根據(jù)CMP工藝制程的不同搭配不同的研磨墊：粗磨墊/精磨墊/粗拋墊/精拋墊  吉致電子CMP拋光墊滿足低、中及高硬度材料拋光需求，具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性價(jià)比等優(yōu)勢。結(jié)合硬質(zhì)和軟質(zhì)研磨拋光墊的優(yōu)點(diǎn)，可兼顧工件的平坦度與均勻度碳化硅研磨選擇吉致無紡布復(fù)合拋光墊，提供更快磨合的全局平坦性，提升碳化硅晶圓制程的穩(wěn)定性與尺寸精密度。  壓紋和開槽工藝，讓PAD可保持拋光
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[應(yīng)用案例]吉致電子金屬拋光液---Apple Logo鏡面拋光液[ 2022-11-11 17:21 ]
Apple Logo非常有質(zhì)感，其閃閃發(fā)光的鏡面效果展現(xiàn)出蘋果品牌的魅力與審美。一個(gè)完美蘋果LOGO的誕生需要經(jīng)過化學(xué)機(jī)械拋光工藝的拋磨，CMP工藝拋出的光潔度更高，效率更穩(wěn)定，保證良品率的同時(shí)也為品牌塑造更好的形象。Apple Logo采用的是6063鋁合金材質(zhì)/不銹鋼材質(zhì)，進(jìn)行CNC切割成LOGO形狀，然后通過平面拋光機(jī)進(jìn)行拋光，采用復(fù)合型粗拋墊和CMP拋光液進(jìn)行粗拋平整化，最后通過采用阻尼布精拋墊加精拋液拋磨，達(dá)到完美的鏡面效果。吉致電子為蘋果LOGO定制的金屬拋光液，工藝為粗磨，中磨，精拋。拋光速率快，光潔
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[吉致動(dòng)態(tài)]鏡面拋光液---氧化硅拋光液在拋光中的作用[ 2022-08-12 14:17 ]
鏡面拋光液的主要材料是納米二氧化硅磨料，制備成的液體漿料也稱為硅溶膠拋光液。二氧化硅拋光液主要適用于拋光藍(lán)寶石襯底、硅片、半導(dǎo)體、精密電子工件、晶體等產(chǎn)品。二氧化硅拋光漿料主要利用硅膠離子的高速拋光來達(dá)到表面處理的效果。二氧化硅是用納米技術(shù)制成的。根據(jù)工件拋磨要求，可制備出不同切削力的產(chǎn)品達(dá)到鏡面拋光。粒度控制可以有效減少電子工件上的污垢，使用納米級(jí)硅膠顆粒加工工件，不會(huì)損傷工件，同時(shí)還能達(dá)到理想效果氧化硅拋光液需要配合精拋墊使用，精拋墊的主要成分是聚氨酯，聚氨酯的眾多孔隙可以將拋光液均勻地粘在其表面，與工件一起研
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