- [吉致動態(tài)]3C產(chǎn)品鏡面拋光解決方案：無麻點SiO2氧化硅拋光液[ 2025-06-06 15:33 ]
- 為什么3C產(chǎn)品鏡面拋光首選CMP而非電解拋光？在3C行業(yè)（手機、筆記本、智能穿戴等），電解拋光因易導致邊緣過蝕、材料限制等問題，逐漸被CMP（化學機械拋光）取代。吉致電子通過納米級SiO?拋光液的機械-化學協(xié)同作用，可實現(xiàn)：①納米級精度：表面粗糙度Ra＜2nm，滿足光學級鏡面要求②復雜結構適配：適用于鋁合金中框、不銹鋼按鍵等異形件③效率提升：較傳統(tǒng)工藝縮短30%工時二氧化硅拋光液麻點問題深度解析客戶反饋的麻點問題多源于：硅溶膠腐蝕：低純度漿料中的Na?、Cl?引發(fā)金屬電化學腐蝕工藝缺陷：前道粗拋殘留劃痕＞0.1μm
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http://simplybyfaithhousing.com/Article/3cc pjmpgjj_1.html
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