- [吉致動態(tài)]吉致電子Slurry拋光漿料--阻擋層拋光液[ 2022-11-11 13:26 ]
- 目前，超大規(guī)模集成電路芯片的集成度已經達到了數十億個元件，特征尺寸已經達到了納米級，這就需要微電子技術中的數百道工序，尤其是多層布線、襯底、介質等必須通過CMP化學機械技術，拋光液和拋光墊磨拋達到平坦化。VLSI布線正從傳統(tǒng)的鋁布線工藝向銅布線工藝轉變。 銅材質具有快速遷移的特性，容易通過介質層擴散，導致相鄰銅線之間漏電，進而導致器件特性失效。一般在沉積銅之前，在介質襯底上沉積擴散阻擋層，工業(yè)上已經廣泛使用的阻擋層材料是tan/ta。 化學拋光(CMP)技術slurry拋光漿料
-
http://simplybyfaithhousing.com/Article/jzdzslurry_1.html
相關搜索
- 無相關搜索
吉致熱門資訊
-
吉致電子CMP精拋墊的作用有哪些 -
喜迎“六一”歡度“端午”----吉致電子員工團建活動
-
吉致電子---氧化硅拋光液的特點和作用
-
氧化硅拋光液的結晶問題
-
鏡面拋光液---氧化硅拋光液在拋光中的作用
-
什么是金剛石研磨液
-
吉致電子納米氧化硅拋光液的特點
-
吉致電子CMP拋光液適用設備有哪些？
-
納米拋光液---納米氧化鋁拋光液
-
相聚吉致 歡度中秋---2022年吉致電子科技中秋團建活動
-
吉致電子 射頻濾波器拋光液slurry廠家
-
吉致電子CMP不銹鋼拋光液的特點
-
吉致電子淺槽隔離拋光液怎么用
-
不銹鋼拋光液的CMP鏡面拋光
-
吉致電子--不銹鋼工件的研磨拋光工序
-
吉致電子Slurry拋光漿料--阻擋層拋光液
-
硅溶膠研磨液--精密工件鏡面拋光效果秘密
-
2023吉致電子春節(jié)放假通知
-
吉致電子常見的CMP研磨液
-
CMP拋光液---納米氧化鈰拋光液的優(yōu)點
