常用的拋光方法有哪些?
1.1機(jī)械拋光
機(jī)械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法,一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等,以手工操作為主,特殊無(wú)件如回轉(zhuǎn)體表面,可使用轉(zhuǎn)臺(tái)等輔助工具,表面質(zhì)量要求高的可采用精研拋的方法。精研拋是采用特制的磨具,在含有磨料的研拋液中,緊壓在工件被加工表面上,作高速旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。利用該技術(shù)可以達(dá)到Ra0.008μm的表面粗糙度,是各種拋光方法中高的。光學(xué)鏡片模具常采用這種方法。
1.2化學(xué)拋光
化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀(guān)凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解,從而得到平滑面。這種方法的主要優(yōu)點(diǎn)是不需復(fù)雜設(shè)備,可以?huà)伖庑螤顝?fù)雜的工件,可以同時(shí)拋光很多工件,效率高?;瘜W(xué)拋光的核心問(wèn)題是拋光液的配制?;瘜W(xué)拋光得到的表面粗糙度一般為數(shù)10μm。
1.3電解拋光
電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同,即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。與化學(xué)拋光相比,可以消除陰反應(yīng)的影響,效果較好。電化學(xué)拋光過(guò)程分為兩步: (1)宏觀(guān)整平:溶解產(chǎn)物向電解液中擴(kuò)散,材料表面幾何粗糙下降,Ralμm。 (2)微光平整: 陽(yáng)化,:表面光亮度提高,Ralμm。
1.4聲波拋光
將工件放入磨料懸浮液中并一起置于聲波場(chǎng)中,依靠聲波的振蕩作用,使磨料在工件表面磨削拋光。聲波加工宏觀(guān)力小,不會(huì)引起工件變形,但工裝制作和安裝較困難。聲波加工可以與化學(xué)或電化學(xué)方法結(jié)合。在溶液腐蝕、電解的基礎(chǔ)上,再施加聲波振動(dòng)攪拌溶液,使工件表面溶解產(chǎn)物脫離,表面附近的腐蝕或電解質(zhì)均勻;聲波在液體中的空化作用還能夠抑制腐蝕過(guò)程,利于表面光亮化。
1.5流體拋光
流體拋光是依靠高速流動(dòng)的液體及其攜帶的磨粒;中刷工件表面達(dá)到拋光的目的。常用方法有:磨科噴射加工、液體噴射加工、流體動(dòng)力研磨等。流體動(dòng)力研磨是由液壓驅(qū)動(dòng),使攜帶磨粒的液體介質(zhì)高速往復(fù)流過(guò)工件表面。介質(zhì)主要采用在較低壓力下流過(guò)性好的特殊化合物(聚合物狀物質(zhì))并摻上磨料制咸,磨料可采用碳化硅粉末。
1.6磁研磨拋光
磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場(chǎng)作用下形成磨料刷,對(duì)工件磨削加工。這種方法加工效率高,質(zhì)量好,加工條件容易控制,工作條件好。采用合適的磨料,表面粗糙度可以達(dá)到Ra0.1μm。
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