杜邦I(lǐng)C1000拋光墊的特點(diǎn)及國(guó)產(chǎn)替代
在半導(dǎo)體晶圓及芯片的制造過(guò)程中,CMP是實(shí)現(xiàn)晶圓表面全局平坦化的關(guān)鍵工藝,而IC1000作為一種高性能的拋光墊,為 CMP工藝的順利進(jìn)行提供了有力保障。
杜邦I(lǐng)C1000系列拋光墊能夠存儲(chǔ)和輸送CMP拋光液至拋光區(qū)域,通過(guò)slurry的流動(dòng)和分布使拋光工作持續(xù)均勻地進(jìn)行。在化學(xué)機(jī)械拋光過(guò)程中,拋光液中的化學(xué)成分與晶圓表面材料產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng),生成較易去除的物質(zhì),而dupont IC1000 Pad為這一化學(xué)反應(yīng)提供了穩(wěn)定的場(chǎng)所。同時(shí),IC1000拋光墊能夠去除拋光過(guò)程中產(chǎn)生的副產(chǎn)品,如氧化產(chǎn)物和拋光碎屑等,為下一次的拋光做好準(zhǔn)備。
在半導(dǎo)體硅片研磨拋光的實(shí)際應(yīng)用中,杜邦I(lǐng)C1000的性能優(yōu)勢(shì)得到了充分體現(xiàn)。IC1000拋光墊能夠在不同的晶圓制造環(huán)節(jié)中發(fā)揮穩(wěn)定的作用,無(wú)論是硅晶圓制備的初始平坦化,還是多層金屬互連結(jié)構(gòu)制造中的平坦化需求,IC1000聚氨酯拋光墊都能滿足。例如,在現(xiàn)代芯片多層金屬布線制造中,每層金屬布線完成后需 CMP 技術(shù)平坦化,IC1000 能夠?yàn)橄乱粚硬季€提供平坦表面,確保芯片性能的穩(wěn)定??傊琩upont IC1000拋光墊與CMP工藝緊密關(guān)聯(lián),在半導(dǎo)體制造中發(fā)揮著不可或缺的重要作用。
近年來(lái),中國(guó)大陸半導(dǎo)體材料市場(chǎng)增速迅猛,隨著國(guó)內(nèi)經(jīng)濟(jì)的快速發(fā)展和科技水平的不斷提高,對(duì)半導(dǎo)體cmp耗材的需求持續(xù)增長(zhǎng)。國(guó)內(nèi)高新技術(shù)企業(yè)在拋光液、拋光墊的國(guó)產(chǎn)替代方面做著積極努力。技術(shù)方面與國(guó)際先進(jìn)水平相比,國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體材料和設(shè)備的研發(fā)、制造等環(huán)節(jié)仍存在一定差距但無(wú)限靠近。雖然國(guó)產(chǎn)替代過(guò)程面臨著諸多挑戰(zhàn),但也迎來(lái)了難得的機(jī)遇。吉致電子在研發(fā)生產(chǎn)半導(dǎo)體CMP耗材(Pad/Slurry)方面加大研發(fā)投入和創(chuàng)新力度,憑借多年經(jīng)驗(yàn)技術(shù)和可靠的產(chǎn)品質(zhì)量,逐步獲得國(guó)內(nèi)外客戶的認(rèn)可。杜邦I(lǐng)C1000拋光墊的國(guó)產(chǎn)替代聚氨酯拋光墊在使用中能保持一致性與穩(wěn)定性,在硬度、密度、空隙大小和彈性等參數(shù)經(jīng)過(guò)精心設(shè)計(jì)和優(yōu)化,能夠適應(yīng)不同的CMP工藝需求,為晶圓表面平坦化提供了可靠的保障。
隨著國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體市場(chǎng)需求的增長(zhǎng)和企業(yè)的不斷努力,國(guó)產(chǎn)替代產(chǎn)品將不斷涌現(xiàn),為我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展做出更大的貢獻(xiàn)。
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