磨料在CMP拋光液中的作用
拋光磨料是CMP拋光液中的主要成分,在拋光過程中通過微切削、微擦劃、滾壓等方式作用于工件表面,達(dá)到機(jī)械去除材料的作用。
拋光液根據(jù)磨料成分一般分為單一磨料拋光液,混合磨料拋光液,復(fù)合磨料拋光液
磨料在CMP拋光過程中起到的作用為:
(1)機(jī)械作用的實施者,起機(jī)械磨削作用;
(2)傳輸物料的功能,不僅將新鮮漿料傳輸至拋光墊與被拋材料之間,還將反應(yīng)物帶離材料表面,使得材料新生表面露出,進(jìn)一步反應(yīng)去除。
所以選擇拋光液時記得考慮分散性好,流動性好,硬度適中,易于清洗的拋光液產(chǎn)品,選擇靠譜拋光液廠家很重要!有相關(guān)問題可以咨詢吉致電子17706168670。
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