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[吉致動態(tài)]半導體拋光墊---吉致電子Suba pad替代[ 2024-12-10 15:14 ]

在半導體硅片、襯底、光學玻璃以及精密陶瓷等材料的加工領域，CMP拋光工藝是至關重要的環(huán)節(jié)，而CMP拋光墊（CMP Pad）則是這一環(huán)節(jié)中的關鍵因素之一。其中，由陶氏公司（Dow）生產的SUBA拋光墊（Suba Pad）備受矚目。陶氏公司生產的SUBA拋光墊在CMP化學機械研磨方面有著優(yōu)異的拋光性能，尤其在拋光半導體晶圓方面效果顯著。半導體晶圓和襯底是現(xiàn)代集成電路產業(yè)的基石，晶圓和襯底表面的平坦度、光潔度等直接影響芯片的性能和質量。SUBA拋光墊憑借其獨特的材料和結構，能夠使拋光過程達到一

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[常見問題]CMP拋光液---半導體拋光液種類有哪些[ 2024-08-09 09:01 ]

半導體拋光液種類有哪些？CMP拋光液在集成電路領域的應用遠不止晶圓拋光，半導體使用的CMP制程包括氧化層（Oxide CMP）、多晶硅（Poly CMP）、金屬層（Metal CMP）。就拋光工藝而言，不同制程的產品需要不同的拋光流程，28nm制程需要12~13次CMP，進入10nm制程后CMP次數(shù)將翻倍，達到25~30次。STI CMP Slurry---淺溝槽隔離平坦化 STI淺溝槽隔離技術是用氧化物隔開各個門電路，使各門電路之間互不導通，STI CMP工藝的目標是去除填充在淺溝槽中的

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[吉致動態(tài)]國際第三代半導體年度盛會--吉致電子半導體拋光耗材受關注[ 2024-01-12 14:10 ]

吉致電子受邀出席第九屆國際第三代半導體論壇（IFWS）暨第二十屆中國國際半導體照明論壇（SSLCHINA），斬獲大會頒發(fā)的“品牌力量”獎項。該獎項由IFWS&SSLCHINA組委會頒發(fā)，是為發(fā)展第三代半導體和半導體照明產業(yè)所屬領域的優(yōu)秀企業(yè)和優(yōu)勢品牌所創(chuàng)立，獲得該獎項是對吉致電子在半導體照明產業(yè)領域出色表現(xiàn)的高度認可。后摩爾時代，發(fā)展正當時的第三代半導體產業(yè)迎來發(fā)展機遇。半導體業(yè)繼往開來進入新的發(fā)展階段，論壇期間氛圍熱烈，學術報告、行業(yè)

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[常見問題]半導體拋光中銅拋光液和鎢拋光液的區(qū)別[ 2023-08-18 16:58 ]

常用的半導體拋光液，按拋光對象的不同分W鎢拋光液、CU銅拋光液、氧化層拋光液、STI拋光液等。其中銅拋光液slurry主要應用于 130nm 及以下技術節(jié)點邏輯芯片的制造工藝，而鎢拋光液W slurry則大量應用于存儲芯片制造工藝，在邏輯芯片中用量較少。銅拋光液，主要由腐蝕劑、成膜劑和納米磨料組成。腐蝕劑用來腐蝕溶解銅表面，成膜劑用于形成銅表面的鈍化膜，鈍化膜的形成可以保護腐蝕劑的進一步腐蝕，并可有效地降低金屬表面硬度。除此之外，CMP拋光液中經常添加一些化學試劑以調節(jié)PH值，為拋光過程

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[常見問題]半導體拋光---硅片拋光墊怎么選[ 2023-08-08 16:31 ]

硅片拋光涉及到半導體工件的技術加工領域，硅片拋光墊的多孔結構和軟性磨料材料，可以適應不同硅片材料的表面結構，達到不同表面加工的需求。在微電子、半導體、光電等領域中，CMP拋光墊的使用越來越廣泛，尤其是在制造高性能晶體管、集成電路和MEMS等微納米器件中，CMP拋光墊的質量和性能至關重要。硅片拋光墊的主要作用有：①使拋光液有效均勻分布至整個加工區(qū)域，且可提供新補充的拋光液進行一個拋光液循環(huán)；②從工件拋光表面除去拋光過程產生的殘留物（如拋光碎屑、拋光碎片等）；③傳遞材料去除所需的

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[行業(yè)資訊]什么是OX研磨液?吉致電子氧化層拋光液性能有哪些？[ 2023-04-19 10:08 ]

Oxide slurry 簡稱OX氧化物研磨液廣泛用于氧化層材料的CMP拋光，拋光研磨后達到精準的表面平整度和厚度控制，如Si Wafer晶圓表面的氧化硅層或者上層金屬與氧化硅之間的氧化硅層等。吉致電子OX氧化層拋光液適用于4-12英寸氧化硅鍍膜片的氧化層拋光液。JEEZ半導體拋光液性能優(yōu)點：①使用純度高的納米拋光磨料，擁有高速率加工能力;②slurry粒徑大小均勻因此能獲得無缺陷的表面；③ 吉致Oxide slurry 易清洗無殘留，對后續(xù)工藝影響小。

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[行業(yè)資訊]半導體拋光液--球型二氧化硅拋光液的用途[ 2022-11-23 15:21 ]

球形硅微粉作為拋光液磨料，可大大提高產品的剛性、耐磨性、耐候性、抗沖擊性、耐壓性、抗拉性、阻燃性、良好的耐電弧絕緣性和耐紫外線輻射性。讓我們來看看球型二氧化硅拋光液在電子芯片中的一些應用。精密研磨粉高純球形硅粉用于光學器件和光電行業(yè)的精密研磨，特別適用于半導體單晶多晶硅片、顯像管玻殼玻屏、光學玻璃、液晶顯示器(LCD、LED)玻璃基板、壓電晶體、化合物半導體材料(砷化鎵、磷化銦)、磁性材料等半導體行業(yè)的研磨拋光。吉致電子用高純球形硅粉制備成的超高純硅溶膠拋光液slurry,

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[應用案例]半導體拋光液---陶瓷覆銅板DPC拋光液/DBC研磨液[ 2022-11-18 14:46 ]

吉致電子陶瓷覆銅板研磨液/DPC拋光液/DBC研磨液通常有粗拋和精拋兩道工藝，根據(jù)客戶對工件拋磨要求和表面粗糙度不同，選擇不同的DPC研磨液或精拋液。陶瓷覆銅板DPC/DBC的粗拋工藝，主要是快速減薄尺寸，提高拋磨效率。對于質量度要求更高的DPC基板，需要進行二次精拋，達到去除表面缺陷和不良效果的目的，使用吉致電子陶瓷覆銅板研磨液/精拋液后，DPC/DBC基板的表面粗糙度RA值可達0.003μm以下。選擇吉致陶瓷覆銅板研磨液/DPC拋光液/DBC研磨液可實現(xiàn)陶瓷基板粗拋、精拋不同階段效果。經過吉致CMP拋光后，工

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[行業(yè)資訊]半導體拋光液---半導體材料有哪些？[ 2022-11-17 15:37 ]

半導體業(yè)內從材料端分為：第一代元素半導體材料，如硅（Si）和鍺(Ge)；第二代化合物半導體材料：如砷化鎵（GaAs）、磷化銦（InP）等；第三代寬禁帶材料：如碳化硅（SiC）、氮化鎵（GaN）、氮化鋁（ALN）、氧化鎵（Ga2O3）等。碳化硅（SiC）和氮化鎵（GaN）、氮化鋁（ALN）、氧化鎵（Ga2O3）等，因為禁帶寬度大于2.2eV統(tǒng)稱為寬禁帶半導體材料，在國內也稱為第三代半導體材料。其中碳化硅和氮化鎵是目前商業(yè)前景最明朗的半導體材料，堪稱半導體產業(yè)內新一代“黃金賽道&

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[客戶感言]半導體拋光液國產平替----射頻濾波器拋光液[ 2022-09-19 16:00 ]

我們是廣東一家半導體廠商，主要是做射頻濾波器件的，制程其中有一道CMP工藝要用到拋光液等耗材。近幾年隨著國家半導體事業(yè)的發(fā)展，很多物料遭受國外卡脖子限制，就算能買回來不僅價格高，交期也要很久。海外采購過程費時費力費錢，導致我們一直以來都是看國外廠商的臉色，最近也是痛下決心要國產化替代。期間測試了很久，也試了很多家廠商，測試的結果總是不理想，最主要的是在臺階選擇比上的體現(xiàn)。一籌莫展之際，找到了吉致電子科技有限公司！貴司的服務和產品效果也是讓我大吃一驚，期間送樣測試也是免費的，

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[常見問題]半導體拋光液是什么？[ 2022-09-15 15:51 ]

半導體拋光液是什么？簡單來說拋光液是通過化學機械反應，去除半導體工件表面的氧化層，達到光潔度和高平坦要求的化學液體。半導體CMP拋光液是超細固體研磨材料和化學添加劑的混合物，制備成均勻分散的懸浮液，起到研磨、潤滑和腐蝕溶解等作用，主要原料包括研磨顆粒、PH調節(jié)劑、氧化劑和分散劑等。拋光液的分類：根據(jù)酸堿性可以分為：酸性拋光液和堿性拋光液、中性拋光液。根據(jù)拋磨材質可以分為：金屬拋光液和非金屬拋光液。根據(jù)拋光對象不同，拋光液可分為銅拋光液、鎢拋光液、硅拋光液和鈷拋光液等。其中，銅拋光液和鎢拋

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[吉致動態(tài)]吉致電子---氧化硅拋光液的特點和作用[ 2022-08-04 14:54 ]

氧化硅拋光液的主要成分是高純二氧化硅粉為，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光液。氧化硅溶液其實就是市面上的硅溶膠，當然是二次加工后的硅溶膠。因為硅溶膠是膠狀的，不能直接研磨拋光。這項技術的主要應用是CMP半導體拋光。該技術在相對早期階段就已存在，但市場應用范圍較窄。氧化硅外觀為乳白色懸浮液，呈堿性、中性、酸性。一般時間長了不會有沉淀，但是暴露在空氣中很快就會結晶，有一定的腐蝕性。不銹鋼工件在二氧化硅環(huán)境中容易生銹，拋光工件時應及時清洗掉二氧化硅溶液。&n

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